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用于制药应用的低温氧化硅涂层 

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申请/专利权人:应用材料公司

摘要:本公开是关于经涂覆药物组合物及利用低温氧化硅涂覆制备经涂覆药物组合物的方法。特定地,本申请公开了一种在低温下使用硅前驱物及催化剂涂覆有效制药成分颗粒的方法。

主权项:1.一种制备包含经氧化硅涂覆颗粒的制药组合物的方法,所述经氧化硅涂覆颗粒包含通过一个或多个氧化硅层封入的有效制药成分API,所述方法包含以下顺序步骤:a提供包含API的颗粒;b1将包含所述API的所述颗粒装载至反应器中;b2通过将蒸汽或气态催化剂脉冲至所述反应器中,来施加蒸汽或气态催化剂至所述反应器中的所述颗粒,其中所述催化剂为三甲基铝TMA;b3使用惰性气体执行所述反应器的一个或多个泵净化循环;b4通过将蒸汽或气态硅前驱物脉冲至所述反应器中,来施加所述蒸汽或气态硅前驱物至所述反应器中的所述颗粒,其中所述硅前驱物为三叔戊氧基硅烷醇TPS;b5使用惰性气体执行所述反应器的一个或多个泵净化循环;c处理所述经涂覆颗粒以制备制药成分。

全文数据:

权利要求:

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