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【发明授权】视场分割型航空面阵相机的试验场检校方法和装置_中国人民解放军61540部队_202311242030.9 

申请/专利权人:中国人民解放军61540部队

申请日:2023-09-25

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN117606447B

主分类号:G01C11/02

分类号:G01C11/02;G01C25/00;G06F17/10

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2024.03.15#实质审查的生效;2024.02.27#公开

摘要:本发明公开了一种视场分割型航空面阵相机的试验场检校方法和装置,所述方法包括:根据待校验相机信息和校验飞机飞行高度信息,确定试验场信息;利用校验飞机搭载所述待校验相机,对所述试验场进行影像采集和分析,得到试验场子影像集合信息;利用所述试验场子影像集合信息和所述待校验相机信息,构建得到检校模型;对所述检校模型进行求解,得到所述待校验相机的校正参数。本发明方法能够克服附加参数自检校光束平差中附加参数自身的强的相关性,同时也能克服附加参数与内方位外方位元素等其它未知数的强相关性所导致的计算不收敛难题,从而准确解算相机参数并完成系统误差补偿,为生成无畸变全幅大面阵影像提供精准参数。

主权项:1.一种视场分割型航空面阵相机的试验场检校方法,其特征在于,包括:S1,根据待校验相机信息和校验飞机飞行高度信息,确定试验场信息;S2,利用校验飞机搭载所述待校验相机,对所述试验场进行影像采集和分析,得到试验场子影像集合信息;S3,利用所述试验场子影像集合信息和所述待校验相机信息,构建得到检校模型;S4,对所述检校模型进行求解,得到所述待校验相机的校正参数;所述根据待校验相机信息和校验飞机飞行高度信息,确定试验场信息,包括:S11,利用试验场信息生成模型,对所述待校验相机信息和校验飞机飞行高度信息进行处理,得到试验场场地信息;所述待校验相机信息,包括相机像幅宽度L、相机焦距f、相机像元尺寸Cs;所述试验场场地信息,包括试验场边长的下界、标志点尺寸值、标志点间隔值和标志点数目下限;所述试验场信息生成模型,其表达式为:W=L×Hf,GSD=Cs×Hf, 其中,H为校验飞机飞行高度,W为试验场边长的下界;所述试验场为矩阵区域;GSD为试验场地面分辨率,R为试验场中的标志点尺寸值,S为试验场中的标志点间隔值,Tn为试验场中的标志点数目下限;所述标志点,为试验场中按照预设间隔S进行等间隔布设的标志物;S12,根据所述试验场场地信息,在试验场中安装标志点;对每个安装后的标志点进行位置测量,得到标志点大地位置坐标;所述标志点大地位置坐标,为所述标志点在大地坐标系下的坐标;S13,利用所述试验场场地信息和标志点大地位置坐标,构建得到试验场信息;所述检校模型,包括i0×j0个校验表达式;每个校验表达式,与子影像的一个标志点相对应;对于第i个子影像的第j个标志点,其校验表达式为: 其中,i0为所述待校验相机采集得到的子影像数目,j0为一个子影像所包含的标志点数目,dx0、dy0、df分别为所述待校验相机主点在像元坐标系下的x轴位置坐标改正系数、y轴位置坐标改正系数、所述待校验相机的焦距改正系数,K1,K2,K3分别代表所述待校验相机的径向畸变改正系数,P1,P2分别代表所述待校验相机的切向畸变改正系数,b1,b2分别代表所述待校验相机的焦面探测器件的非正交变形改正系数;A0i,A1i,A2i,A3i,A4i,A5i,B0i,B1i,B2i,B3i,B4i,B5i为第i个子影像的像方二阶验后补偿系数;xi,j,yi,j为第i个子影像的第j个标志点的在像元坐标系下的位置坐标,x0、y0、f分别为所述待校验相机主点在像元坐标系下的x轴位置坐标、y轴位置坐标和焦距的初始值,Xij,Yij,Zij为所述第i个子影像的第j个标志点的在大地坐标系下的位置坐标,XS,YS,ZS为所述待校验相机对所述试验场进行拍摄时刻,所述待校验相机在大地坐标系下的位置坐标,xi,yi为第i个子影像的左上角点在所有子影像所构成的像元坐标系下的位置坐标,ri为第i个子影像的相对距离值,rij表示旋转矩阵的第i行、第j列的元素,i=1,2,3,j=1,2,3;所述旋转矩阵,根据待校验相机的摄影姿态角决定;在所述检校模型中,dx0、dy0、df、K1、K2、K3、P1、P2、b1、b2、XS,YS,ZS、r11、r12、r13、r21、r22、r23、r31、r32、r33、A0i、A1i、A2i、A3i、A4i、A5i、B0i、B1i、B2i、B3i、B4i、B5i为未知量,xi,j,yi,j、x0、y0、f、Xij,Yij,Zij、xi,yi、ri为已知量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国人民解放军61540部队 视场分割型航空面阵相机的试验场检校方法和装置

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