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可植入电极阵列位置监测 

申请/专利权人:科利耳有限公司

申请日:2022-10-31

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118251255A

主分类号:A61N1/05

分类号:A61N1/05;A61N1/36

优先权:["20211109 US 63/277,253"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本文呈现了在手术期间或在手术之后确定电极阵列的一个或多个部分的放置位置的技术。本文呈现的技术使用“定位模型”定位算法估计预测电极阵列的定位放置并且或者估计在插入期间或在插入之后电极阵列在接受者的体腔例如,耳蜗内部的定位放置特征例如,基底电极的深度、蜗轴接近度、电极的极坐标或笛卡尔坐标等。更具体地,本文呈现的技术使用从接受者的体腔获得的测量值例如,电压测量值作为经训练模型算法的输入以估计预测电极阵列在接受者的体腔内的位置。

主权项:1.一种方法,包括:确定细长电极阵列的基底部分在接受者的体腔内的插入深度,其中所述电极阵列包括多个纵向间隔开的电极;从所述接受者的体腔获得一个或多个电测量值;以及使用至少所述细长电极阵列的基底部分的确定插入深度与所述一个或多个电测量值之间的关系确定所述细长电极阵列的关键位置的值。

全文数据:

权利要求:

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