申请/专利权人:中国科学院近代物理研究所
申请日:2024-03-18
公开(公告)日:2024-06-25
公开(公告)号:CN118250882A
主分类号:H05H7/08
分类号:H05H7/08;H05H7/00;H05H7/04;H05H7/22
优先权:
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.25#公开
摘要:本发明提供一种离子源束流筛选整形装置及方法,属于束流处理操控技术领域,装置设置在直线加速器的注入端,所述离子源束流筛选整形装置包括:依次连接的引出混合段和综合处理段,其中:引出混合段包括聚焦螺线管和二极磁铁,聚焦螺线管用于对离子源引出的混合离子束进行聚焦整形,二极磁铁用于从经过聚焦整形后的混合离子束流中筛选出满足直线加速器规定的特定能量和MQ的目标粒子,得到初始离子束流;综合处理段包括聚焦四极磁铁和处理腔室,聚焦四极磁铁用于调整初始离子束流在纵向切面上至少两个方向的包络尺寸;处理腔室用于将初始离子束流处理为满足直线加速器规定的发射角度和包络尺寸的注入离子束流。
主权项:1.一种离子源束流筛选整形装置,设置在直线加速器的注入端,其特征在于,所述离子源束流筛选整形装置包括:依次连接的引出混合段和综合处理段,其中:所述引出混合段包括聚焦螺线管和二极磁铁,所述聚焦螺线管用于对离子源引出的混合离子束进行聚焦整形,所述二极磁铁用于从经过聚焦整形后的混合离子束流中筛选出满足所述直线加速器规定的特定能量和MQ的目标粒子,得到初始离子束流;所述综合处理段包括聚焦四极磁铁和处理腔室,所述聚焦四极磁铁用于调整所述初始离子束流在纵向切面上至少两个方向的包络尺寸;所述处理腔室用于将所述初始离子束流处理为满足所述直线加速器规定的发射角度和包络尺寸的注入离子束流。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国科学院近代物理研究所 离子源束流筛选整形装置及方法
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