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一种易清理的搪瓷反应釜 

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申请/专利权人:江苏恒德力化工设备制造有限公司

摘要:本发明公开了一种易清理的搪瓷反应釜,涉及搪瓷反应釜技术领域,包括釜体以及安装在所述釜体顶部的釜盖,所述釜盖的顶部外壁上设有顶部安装架,还包括:驱动机构:所述驱动机构设置在所述釜体的中央位置;引流机构:所述引流机构连接在所述驱动机构上;清理机构:所述清理机构由内壁清理机构、自清理机构以及底部清理机构三者构成,所述内壁清理机构包括连接在所述驱动机构上的搅拌杆和内杆,所述内杆设置于所述搅拌杆的内部,所述内杆的一端设有散射喷头。本发明公开的易清理的搪瓷反应釜具有充分清理釜体内部以及对清理机构自身有效自清理的技术效果。

主权项:1.一种易清理的搪瓷反应釜,包括釜体(1)以及安装在所述釜体(1)顶部的釜盖(4),所述釜盖(4)的顶部外壁上设有顶部安装架(5),其特征在于,还包括:驱动机构:所述驱动机构设置在所述釜体(1)的中央位置,所述驱动机构包括设置在所述顶部安装架(5)上方的电机(6),所述电机(6)输出轴的一端连接有传动轴,所述传动轴的底端安装有转杆(9),所述转杆(9)的内壁设有通孔(14);清理机构:所述清理机构由内壁清理机构、自清理机构以及底部清理机构三者构成,所述内壁清理机构包括连接在所述驱动机构上的搅拌杆(13)和内杆(16),所述内杆(16)设置于所述搅拌杆(13)的内部,所述内杆(16)的一端设有散射喷头(20),所述内杆(16)的内壁设有分流孔(23),所述散射喷头(20)与所述分流孔(23)相连通;所述自清理机构包括滑动连接在所述内杆(16)外壁的活动片(18)以及连接在所述散射喷头(20)一侧外壁的固定片(19),所述固定片(19)靠近所述活动片(18)的一侧外壁上设有若干个圆周分布的适配板(21),所述适配板(21)上开有等距离分布的出液孔(22),所述活动片(18)上设有等距离分布的安装孔,所述安装孔内壁上安装有压板(28),所述压板(28)上设有细孔,所述压板(28)与所述适配板(21)配合使用,所述搅拌杆(13)靠近所述固定片(19)一侧的两边外壁上均设有铁芯(27),所述活动片(18)靠近所述搅拌杆(13)的一侧设有两个第二电磁铁(29),所述第二电磁铁(29)与所述铁芯(27)相适配,所述固定片(19)的一侧外壁上设有第一电磁铁(24),所述活动片(18)的一侧外壁上设有铁片,所述铁片与所述第一电磁铁(24)配合使用,所述内杆(16)的外壁上设有复位弹簧(17),所述复位弹簧(17)的一端连接在所述内杆(16)与所述搅拌杆(13)之间的缝隙中,所述复位弹簧(17)的另一端连接在所述活动片(18)的一侧外壁上;所述底部清理机构包括设置在所述驱动机构底端的环架(30),所述环架(30)的顶部外壁上设有等距离分布的导流通道(31),所述环架(30)的圆周外壁上均设有等距离分布的底部搅拌座(10),所述底部搅拌座(10)的一侧内壁上设有固定座(34),所述固定座(34)的一侧外壁上通过轴承连接有叶轮扇(33),所述叶轮扇(33)的叶片一侧外壁设有挡片(35),所述固定片(19)和所述活动片(18)两者互为相适配的凹面结构,所述适配板(21)和所述压板(28)均设置为弧形结构,且所述适配板(21)和所述压板(28)的弧度与所述固定片(19)和所述活动片(18)的凹面弧度一致,所述搅拌杆(13)连接在所述转杆(9)的外侧壁上;引流机构:所述引流机构连接在所述驱动机构上,所述引流机构包括设置在所述顶部安装架(5)内侧壁上的转接盒(7),所述转接盒(7)的一侧外壁上设有导入管(12),且所述转接盒(7)与所述转杆(9)内部的所述通孔(14)相连通,所述通孔(14)与所述分流孔(23)相连通,所述转杆(9)的外壁上安装有清理环盒(8),所述清理环盒(8)的底部内侧壁与所述转杆(9)之间设有间隙,所述间隙中安装有环形喷头(11),所述环形喷头(11)与所述转杆(9)的外壁相靠近;联动混合机构:所述联动混合机构设置在所述自清理机构上,所述联动混合机构包括设置在所述搅拌杆(13)顶部和底部的调节轨道(26),两个所述调节轨道(26)的内壁上均滑动连接有轨道块,两个所述轨道块的一侧外壁上均通过铰链连接有折杆(25),两个所述折杆(25)远离所述轨道块的一端分别通过铰链连接在所述活动片(18)一侧外壁的两边。

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