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申请/专利权人：湖北久之洋红外系统股份有限公司
申请日：2022-12-02
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN115931308B
主分类号：G01M11/02
分类号：G01M11/02
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2023.04.25#实质审查的生效;2023.04.07#公开
摘要：本发明公开了一种应用于高低温传函仪的红外中继系统，物面与像面分别对应被测镜头焦面与点源探测器靶面，实现两者共轭，采用二次成像的结构形式，将被测镜头的焦面共轭成像至温箱外中间像面，刀口狭缝放置于中间像面位置，实现刀口狭缝温箱外扫描，并再共轭至点源探测器靶面，实现信号传递，便于信号MTF解算，被测镜头焦面经过温箱保护窗口和前组成像至刀口狭缝处，再经过后组成像系统共轭成像至点源探测器靶面。本发明中继系统放大倍率为1×，物方数值孔径为0.25，工作波长3μm～5μm，刀口狭缝处中间像点和像面处的传函在100lpmm处均接近衍射极限，达到0.1以上。
主权项：1.一种应用于高低温传函仪的红外中继系统，其特征在于，包括：前组成像系统、温箱保护窗口、刀口或狭缝和后组成像系统；所述前组成像系统包括第一前组透镜、第二前组透镜、第三前组透镜和第四前组透镜；所述后组成像系统包括第一后组透镜、第二后组透镜、第三后组透镜和第四后组透镜；所述温箱保护窗口包括第一温箱保护窗口和第二温箱保护窗口；物方成像光束依次经过第一温箱保护窗口、第二温箱保护窗口、第一前组透镜、第二前组透镜、第三前组透镜和第四前组透镜后一次成像，刀口或狭缝靠近物方的前表面放置在一次像点处，再经过第一后组透镜、第二后组透镜、第三后组透镜和第四后组透镜二次成像在点源探测器靶面上；光线入射方向为物方，即为被测镜头的焦面，光线出射方向为像方，即为点源探测器靶面，第一温箱保护窗口和第二温箱保护窗口均是一片氟化钙平面窗口，第一前组透镜是一片凸面向像方的硅正透镜，第二前组透镜是一片凸面向物方的弯月形锗负透镜，第三前组透镜是一片凸面向物方的弯月形硅正透镜，第四前组透镜是一片凸面向像方的弯月形锗负透镜，刀口或狭缝均是一片蓝宝石平面玻璃，第一后组透镜是一片凸面向像方的弯月形硅正透镜，第二后组透镜是一片凸面向像方的弯月形锗负透镜，第三后组透镜是一片凸面向物方的弯月形硅正透镜，第四后组透镜是一片双凸锗负透镜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北久之洋红外系统股份有限公司 一种应用于高低温传函仪的红外中继系统
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