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申请/专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日：2021-09-24
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN113805425B
主分类号：G03F1/00
分类号：G03F1/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2022.01.04#实质审查的生效;2021.12.17#公开
摘要：本申请提供一种掩膜板、膜层的制作方法、显示基板及显示装置，掩膜板包括多个掩膜图形，掩膜图形包括第一图形和第二图形，第一图形包括分别位于掩膜板相对两个边缘的第一子图形和第二子图形；其中，第二图形包括多个子单元图形，子单元图形沿一子图形指向第二图形的方向排布，且在第一子图形指向第二图形的方向上，多个子单元图形中至少部分子单元图形间隔设置。通过将至少部分子单元图形间隔设置，在通过拼接曝光的方式生产显示面板的过程中，避免了子单元图形之间无间隔时因为挡板边缘的曝光灰区造成子单元图形的重复曝光，改善了多个子单元图形在拼接处所存在的拼接缝和画面不均匀的问题，提高了显示质量。
主权项：1.一种掩模板，包括多个掩模图形，其特征在于，所述掩模图形包括第一图形和第二图形；所述第一图形包括第一子图形和第二子图形，所述第一子图形位于所述掩模板的第一边缘区域，所述第二子图形位于所述掩模板中与所述第一边缘区域相对的第二边缘区域，所述第二图形位于所述第一子图形和所述第二子图形之间；在第一方向上，所述第一子图形与所述第二图形之间设置有第一预设距离，所述第二子图形与所述第二图形之间设置有第二预设距离，所述第一方向为所述第一子图形指向所述第二图形的方向；所述第二图形包括多个子单元图形，所述子单元图形沿第一子图形指向所述第二图形的方向排布，且在所述第一子图形指向所述第二图形的方向上，所述多个子单元图形中至少部分所述子单元图形间隔设置；在所述第一方向上，所述子单元图形的宽度等于两个相邻且间隔设置的子单元图形之间的距离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、膜层的制作方法、显示基板及显示装置
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