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自立膜、层叠片以及自立膜的制造方法 

申请/专利权人:学校法人早稻田大学

申请日:2022-11-10

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118266073A

主分类号:H01L23/36

分类号:H01L23/36;H01L23/373;B22F3/11;B22F1/05;B22F1/148

优先权:["20211112 JP 2021-184864"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明提供一种表现出低电阻、低热阻、高力学强度且耐热性和柔软性优异的、能够以低成本批量生产的自立膜、层叠片以及自立膜的制造方法。自立膜1具有由金属粒子2的聚集体3和空隙4构成的多孔质结构。自立膜1的制造方法包括:在10Torr以上且300Torr以下的惰性气体中使金属蒸发,生成由金属构成的金属粒子2,使金属粒子2沉积在基材上,在基材上形成具有由金属粒子2的聚集体3和空隙4构成的多孔质结构的自立膜前体,以及从基材剥离自立膜前体。层叠片包括:具有由金属粒子2的聚集体3和空隙4构成的多孔质结构的自立膜1;以及载体基材。

主权项:1.一种自立膜,其中,具有由金属粒子的聚集体和空隙构成的多孔质结构。

全文数据:

权利要求:

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