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申请/专利权人：日东电工株式会社
申请日：2020-06-02
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN112083522B
主分类号：G02B5/30
分类号：G02B5/30;G02B1/14;B65H21/00;B65H23/032
优先权：["20190613 JP 2019-110483"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2022.05.20#实质审查的生效;2020.12.15#公开
摘要：本发明提供能够减少因对保护薄膜实施的拼接处理而产生的偏光薄膜的浪费的偏光薄膜的制造方法等。在本发明中，对于贴合于偏振片F1的双面的保护薄膜F2a、F2b，将它们分别自卷绕于放出辊60的放出位置输送至贴合位置，并利用拼接处理装置40对它们分别实施拼接处理。本发明包含：剩余长度计算工序，在该工序中，利用剩余长度计算部件20分别计算卷绕于放出辊的保护薄膜的剩余长度；以及拼接处理工序，在该工序中，在保护薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，利用控制部件30来控制实施时刻而使贴合位置处的保护薄膜的拼接部Sa、Sb的位置偏移L处于规定范围内，实施针对保护薄膜的拼接处理。
主权项：1.一种偏光薄膜的制造方法，在该偏光薄膜的制造方法中，利用卷对卷方式将保护薄膜贴合于偏振片的至少单面来制造偏光薄膜，其中，对于所述偏振片和贴合于所述偏振片的单面的所述保护薄膜这两个薄膜、或者贴合于所述偏振片的双面的所述保护薄膜这两个薄膜，将它们分别自卷绕于放出辊的放出位置输送至贴合位置，并对它们分别实施拼接处理，该偏光薄膜的制造方法包含以下工序：剩余长度计算工序，在该剩余长度计算工序中，对卷绕于所述放出辊的所述两个薄膜的剩余长度分别进行计算；以及拼接处理工序，在该拼接处理工序中，在由所述剩余长度计算工序计算出的所述两个薄膜的剩余长度中的至少任意一者为预定的阈值以下时，控制实施时刻而使所述贴合位置处的所述两个薄膜的拼接部的位置偏移L成为50mm≤L≤500mm，实施针对所述两个薄膜的拼接处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日东电工株式会社 偏光薄膜的制造方法和制造装置
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