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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2022-10-21
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118265951A
主分类号：G03F1/38
分类号：G03F1/38;G03F7/20
优先权：["20211125 EP 21210397.2"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明涉及一种用于EUV辐射的光学装置，包括：‑用于反射EUV辐射的光学部件，所述光学部件包括第一电极；‑第二电极，所述第二电极被布置成与所述光学部件相距一距离；以及‑电压源，所述电压源连接到所述第一电极和所述第二电极，以在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压，使得所述第一电极相对于所述第二电极处于负偏压，其中，所述电压源被配置成以预定的动态行为在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压。
主权项：1.一种用于EUV辐射的光学装置，包括：-光学部件，所述光学部件用于反射EUV辐射并包括第一电极；-第二电极，所述第二电极被布置成与所述光学部件相距一距离；以及-电压源，所述电压源连接到所述第一电极和所述第二电极，以在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压，使得所述第一电极相对于所述第二电极处于负偏压；其中，所述电压源被配置成以预定的动态行为在所述第一电极与所述第二电极之间施加所述DC偏压电压。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 一种光学装置、照射系统、投影系统、EUV辐射源、光刻设备、污染沉积防止方法以及光学部件翻新方法
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