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一种光伏组件紫外线预处理试验用滤光片及其制备方法 

申请/专利权人:上海泊睿科学仪器有限公司;天津市计量监督检测科学研究院

申请日:2023-11-23

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN117572553B

主分类号:G02B5/28

分类号:G02B5/28;G02B5/20;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/34

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2024.06.11#专利申请权的转移;2024.03.08#实质审查的生效;2024.02.20#公开

摘要:本申请涉及一种光伏组件紫外线预处理试验用滤光片,涉及光学滤光片的技术领域,其包括基片和设在基片表面的膜层,所述膜层由高折射率和低折射率材料交替堆叠而成,其膜系结构为HL7,其中,H为高折射率材料;L为低折射率材料,7为高折射率和低折射率材料共同交替堆叠的次数。本申请的滤光片能够对特定紫外线波段进行滤波,满足应对特定光伏组件紫外线预处理试验的需求。

主权项:1.一种光伏组件紫外线预处理试验用滤光片,其特征在于:包括基片和设在基片表面的膜层,所述膜层由高折射率和低折射率材料交替堆叠而成,其膜系结构为HL7,其中,H为高折射率材料;L为低折射率材料,7为高折射率和低折射率材料共同交替堆叠的次数;所述高折射率材料为HFO2,所述低折射率材料为SiO2,所述膜层的原料和厚度分布如下: 膜层 厚度nm 1 HFO2 11.32 2 SiO2 15.41 3 HFO2 56.58 4 SiO2 77.05 5 HFO2 56.58 6 SiO2 77.05 7 HFO2 56.58 8 SiO2 77.05 9 HFO2 56.58 10 SiO2 77.05 11 HFO2 56.58 12 SiO2 77.05 13 HFO2 56.58 14 SiO2 38.534 所述膜层整体的厚度误差在1nm范围内;所述基片的厚度为2mm,所述基片采用高硼酸盐;采用金卤灯作为太阳紫外加速老化试验光源,所述滤光片在250-280nm波段均值透射率T0.1%;在280-385nm波段均值透射率T=92%允许偏差±3%;将紫外波段280~385nm定义为100%,紫外波段280~320nm占比为33.5%。

全文数据:

权利要求:

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