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申请/专利权人：株式会社朝日橡胶
申请日：2019-12-27
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN113260884B
主分类号：G02B1/04
分类号：G02B1/04;C08J7/00;C08J7/02;C08L83/04
优先权：["20181228 JP 2018-247181"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2021.12.21#实质审查的生效;2021.08.13#公开
摘要：本发明提供一种硅树脂或硅橡胶制的光学构件及其制造方法，该光学构件不会发生附着于电子电路或其他构件表面上而导致的触点故障或者其他构件表面的劣化或污染，质量变化少，耐热性良好，透明性高。作为制造方法，使用不同的多种低分子硅氧烷除去工序，将光学构件所含的低分子硅氧烷D3～D20的含有率减少至极微量。
主权项：1.一种光学构件的制造方法,其中，所述光学构件为由硅树脂或硅橡胶成形的透光或导光的光学构件，其中，低分子硅氧烷D3～D20的由己烷浸渍确定的含有率的合计值为100ppm以下，且所述光学构件的制品特性厚度为30mm以下；所述的制造方法包括：低分子硅氧烷除去工序A，和在低分子硅氧烷除去工序之后的与所述低分子硅氧烷除去工序不同的低分子硅氧烷除去工序B；所述低分子硅氧烷除去工序A为所述光学构件的加热处理，其为主要使D3至D10的低分子硅氧烷减少的工序；所述低分子硅氧烷除去工序B为将所述光学构件浸渍于有机溶剂中进行低分子硅氧烷的除去，其为主要使D11至D20的低分子硅氧烷减少的工序。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社朝日橡胶 减少了低分子硅氧烷含有率的光学构件及其制造方法
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