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一种一维SnSe螺旋位错纳米线及其制备方法和应用 

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申请/专利权人:中国矿业大学

摘要:本发明属于半导体相变存储材料技术领域,具体涉及一种一维SnSe螺旋位错纳米线及其制备方法和应用。所述制备方法采用以下步骤:将SnSe粉末置于管式炉中心区域,将基底材料置于下游低温端,调节cc0为1.2‑1.4,催化剂为Au纳米颗粒,进行加热反应,得到所述一维SnSe螺旋位错纳米线。本发明通过化学气相沉积法实现一维范德华SnSe螺旋位错纳米线形貌,结构,尺寸和角度的可控生长;所述制备方法具有工艺简单,操作易控制,所用试剂相对价廉及绿色环保等优点;所述SnSe螺旋位错纳米线具有优越的电学、光学性质,同时还具有热学性能优良、环境友好、化学性质稳定且成本低等特点,在红外光电仪器,记忆切换开关和热电冷却材料等领域存在着巨大的应用价值。

主权项:1.一种一维SnSe螺旋位错纳米线的制备方法,其特征在于,所述制备方法采用以下步骤:将前驱体SnSe粉末置于管式炉中心区域,将基底材料置于下游低温端,Au纳米颗粒旋涂于基地材料底部,进行加热反应,调节cc0为1.2-1.4,得到所述一维SnSe螺旋位错纳米线;其中,c为前驱体SnSe粉末浓度,c0为平衡浓度。

全文数据:

权利要求:

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