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利用光压或光辐射压力效应的测量方法及测量装置 

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申请/专利权人:中国计量科学研究院

摘要:本发明涉及光学领域,提供一种利用光压或光辐射压力效应的测量方法及测量装置,方法包括:将物体静止悬浮设置;将准直、连续、功率稳定的光束垂直入射于物体的表面;测量物体在光束作用下的加速度;根据物体的加速度、质量、透射比、反射比以及受到的阻力,确定光束的光辐射功率;或,根据光束的光辐射功率、物体的加速度、透射比、反射比以及受到的阻力,确定物体的质量。本发明提供的方法,可以根据已知参数测量特定光束的光辐射功率或特定物体的质量,而且通过合理的数学转换,可以实现特定光束的光辐射功率与特定物体的质量的双向测量,即在同一测量中既可以测量光辐射功率也可以测量物体质量,提高了测量的灵活性和多功能性。

主权项:1.一种利用光压或光辐射压力效应的测量方法,其特征在于,包括:将物体静止悬浮设置;所述物体具有至少一侧光滑平整的表面且无明显光散射特性;将准直、连续、功率稳定的光束垂直入射于所述物体的所述表面;测量所述物体在所述光束作用下的加速度;根据所述物体的加速度、质量、透射比、反射比以及受到的阻力,确定所述光束的光辐射功率;或,根据所述光束的光辐射功率、所述物体的加速度、透射比、反射比以及受到的阻力,确定所述物体的质量;所述测量方法的根据为a=[P1-τ+rc-fv]m;其中,a为所述物体的加速度,P为所述光束的光辐射功率,τ为所述物体的透射比,r为所述物体的反射比,c为光速,fv为所述物体在移动速度为v时受到的阻力,m为所述物体的质量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国计量科学研究院 利用光压或光辐射压力效应的测量方法及测量装置

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