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申请/专利权人：河北光兴半导体技术有限公司;北京盛达众安科技有限公司
摘要：本申请提供一种缓冲结构，涉及缓冲设备技术领域。该缓冲结构包括箱体和分料组件。沿第一方向，箱体包括相对的第一壁和第二壁，第一壁设置有第一开口，第二壁设置有第二开口，第一开口在第二壁的投影位于第二开口外。分料组件，包括分料部，分料部转动连接于箱体内部，分料部的旋转面平行于第一方向，分料部在第二壁的投影与第二开口至少部分重叠。分料部发生旋转时，使得物料能够分布均匀地进入第二开口，实现均匀出料的目的。
主权项：1.一种缓冲结构，其特征在于，包括：箱体1，沿第一方向，所述箱体1包括相对的第一壁13和第二壁14，所述第一壁13设置有第一开口11，所述第二壁14设置有第二开口12，所述第一开口11在所述第二壁14的投影位于所述第二开口12外；分料组件2，包括分料部21，所述分料部21转动连接于所述箱体1内部，所述分料部21的旋转面平行于所述第一方向，所述分料部21在所述第二壁14的投影与所述第二开口12至少部分重叠。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 河北光兴半导体技术有限公司 北京盛达众安科技有限公司 缓冲结构
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