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一种来流气体模拟装置磁路结构 

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申请/专利权人:哈尔滨工业大学

摘要:一种来流气体模拟装置磁路结构,属于电推进器领域,本发明为解决现有以考夫曼离子源为原理的来流模拟装置中的锥形放电室结构磁路结构复杂、装配困难、成本高问题。本发明方案:永磁铁支架是由上面的圆筒和下面的锥形筒两部分构成的一体件结构,其中圆筒的顶端开口处具有外翻边沿,锥形筒的下端开口设置有连接板;锥形筒的外侧壁底端焊接有一号均化铁环,外翻边沿的下翻边焊接有铁环,一号定位单元、二号均化铁环、二号定位单元和三号均化铁环沿永磁铁支架的外侧壁由下至上压紧配合安装于一号均化铁环和铁环之间;三个均化铁环均沿周向均布多个永磁铁。

主权项:1.一种来流气体模拟装置磁路结构,其特征在于,包括一号均化铁环1、二号均化铁环2、三号均化铁环3、一号定位单元4、二号定位单元5、铁环6、永磁铁7和永磁铁支架8;永磁铁支架8是由上面的圆筒8-2和下面的锥形筒8-3两部分构成的一体件结构,其中圆筒8-2的顶端开口处具有外翻边沿8-1,锥形筒8-3的下端开口设置有连接板8-4;锥形筒8-3的外侧壁底端焊接有一号均化铁环1,外翻边沿8-1的下翻边焊接有铁环6,一号定位单元4、二号均化铁环2、二号定位单元5和三号均化铁环3沿永磁铁支架8的外侧壁由下至上压紧配合安装于一号均化铁环1和铁环6之间;其中,一号定位单元4和二号均化铁环2设置于锥形筒8-3的外侧壁,二号定位单元5、三号均化铁环3和铁环6设置于圆筒8-2的外侧壁;一号均化铁环1、二号均化铁环2和三号均化铁环3均沿周向均布多个永磁铁7。

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权利要求:

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