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申请/专利权人：同方威视技术股份有限公司;清华大学
摘要：本公开提供一种冷却装置，可用于分布式X射线源，分布式X射线源包括N个射线管，N为大于或等于2的整数。该冷却装置包括：储存机构，被配置为储存冷却介质；动力机构，被配置为从所述储存机构中吸取所述冷却介质并送入输送管；所述输送管，包括N个输送支路，其中，所述N个输送支路被配置为与所述N个射线管一一对应的连通，以允许所述冷却介质通过所述N个输送支路流经所述N个射线管进行热交换。
主权项：1.一种冷却装置，用于分布式X射线源，所述分布式X射线源包括N个射线管，N为大于或等于2的整数，其特征在于，所述冷却装置包括：储存机构，被配置为储存冷却介质；动力机构，被配置为从所述储存机构中吸取所述冷却介质并送入输送管；所述输送管，包括N个输送支路，其中，所述N个输送支路被配置为与所述N个射线管一一对应的连通，以允许所述冷却介质通过所述N个输送支路流经所述N个射线管进行热交换。
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权利要求：
百度查询： 同方威视技术股份有限公司 清华大学 冷却装置及辐射装置
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