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申请/专利权人：郑州大学
摘要：本发明属于钙钛矿阵列制备技术领域，公开一种基于印刷技术制备钙钛矿Micro‑LED阵列的方法。使用等离子或紫外臭氧清洗机对透明导电基底进行清洗，然后将电子传输层溶液旋涂在透明导电基底上，退火，制得电子传输层；使用等离子或紫外臭氧清洗机对含有电子传输层的透明导电基底进行清洗，然后在电子传输层上旋涂高分子溶液，退火，制得高分子牺牲层；通过喷墨打印将有机溶剂打印在高分子牺牲层上，制得微结构阵列；将钙钛矿前驱体溶液滴加在微结构阵列上，然后旋涂或刮涂，退火，制得钙钛矿薄膜阵列；旋涂空穴传输层，蒸镀，获得目标产品‑‑钙钛矿Micro‑LED阵列。本发明喷墨打印具有灵活性高的优势，实现不同场景的应用需求。
主权项：1.一种基于印刷技术制备钙钛矿Micro-LED阵列的方法，其特征在于，步骤如下：S1、制备电子传输层和高分子牺牲层：使用等离子清洗机或紫外臭氧清洗机对透明导电基底进行清洗，然后将电子传输层溶液旋涂在透明导电基底上，第一次退火，制得电子传输层；使用等离子清洗机或紫外臭氧清洗机对含有电子传输层的透明导电基底进行清洗，然后在电子传输层上旋涂高分子溶液，第二次退火，制得高分子牺牲层；其中，高分子溶液的浓度为0.2~0.6wt%，所述高分子为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯或聚丙烯腈；S2、构筑微结构阵列：通过喷墨打印将有机溶剂打印在高分子牺牲层上，制得微结构阵列；所述有机溶剂为能够溶解对应高分子牺牲层的有机溶剂；S3、制备钙钛矿薄膜阵列：将浓度0.625~1.25M的钙钛矿前驱体溶液滴加在微结构阵列上，然后旋涂或刮涂，制得钙钛矿液膜阵列；退火，制得钙钛矿薄膜阵列；S4、制备空穴传输层：将空穴传输层溶液旋涂在钙钛矿薄膜阵列上，制得空穴传输层；S5、蒸镀：在空穴传输层上分别真空蒸镀MoOx和金属电极，获得目标产品--钙钛矿Micro-LED阵列。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 郑州大学 一种基于印刷技术制备钙钛矿Micro-LED阵列的方法
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