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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及用于提供光刻胶特性的实时表征的方法。在一些实施方式中，一种在基板上制备图案化光刻胶的方法，方法包括以下步骤：在基板上形成未图案化光刻胶；用第一光源在未图案化光刻胶上的第一位置处将未图案化光刻胶暴露于第一剂量的电磁EM辐射；测量未图案化光刻胶的光学性质；在未图案化光刻胶上的第一位置处将未图案化光刻胶暴露于第二剂量的EM辐射以产生图案化的或部分图案化的光刻胶。用第二光源的第二剂量的EM辐射相较于第一剂量的EM辐射具有更长的波长、更多的脉冲数或更长的曝光时间。此外，第一光源和第二光源中的至少一个是机载计量装置。
主权项：1.一种在基板上制备图案化光刻胶的方法，所述方法包括以下步骤：在所述基板上形成未图案化光刻胶；用第一光源在所述未图案化光刻胶上的第一位置处将所述未图案化光刻胶暴露于第一剂量的电磁EM辐射；测量所述未图案化光刻胶的光学性质；和用第二光源在所述未图案化光刻胶上的所述第一位置处将所述未图案化光刻胶暴露于第二剂量的EM辐射以产生图案化的或部分图案化的光刻胶，所述第二剂量的EM辐射相较于所述第一剂量的EM辐射具有更长的波长、更多的脉冲数或更长的曝光时间，其中所述第一光源和所述第二光源中的至少一个是机载计量OBM装置。
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