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申请/专利权人：关东化学株式会社
摘要：本发明的课题在于，提供一种对于固化后的抗蚀剂也显示高的剥离性，能够抑制Cu及Al等与液体接触的基板构成金属的腐蚀，并抑制剥离过程中Cu等金属的过度的氧化的光刻胶剥离组合物。一种光刻胶剥离组合物，组合物包含A氢氧化季铵、B二乙二醇单乙醚、C甘油和D水，A的含量相对于组合物的总质量为0.5～5质量％，B的含量相对于组合物的总质量为50～95质量％，C的含量相对于组合物的总质量为0.5～20质量％，D的含量相对于组合物的总质量小于20质量％，通过所述组合物实现上述课题。
主权项：1.一种光刻胶剥离组合物，其中，组合物包含A氢氧化季铵、B二乙二醇单乙基醚、C甘油和D水，A的含量相对于组合物的总质量为0.5～5质量％，B的含量相对于组合物的总质量为50～95质量％，C的含量相对于组合物的总质量为0.5～20质量％，D的含量相对于组合物的总质量小于20质量％。
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