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申请/专利权人：合肥新晶集成电路有限公司
摘要：本公开涉及一种匀温控制装置及匀胶显影机台，涉及集成电路技术领域。所述匀温控制装置包括：热盘和匀温加热结构。热盘具有中心轴以及相对设置的晶圆承载面和支撑面，中心轴连接晶圆承载面的圆心和支撑面的圆心。匀温加热结构位于热盘内，并与热盘的中心轴可转动连接。匀温加热结构用于：以热盘的中心轴为原点，沿平行晶圆承载面的方向匀速转动，以匀温加热晶圆承载面。本公开可以对晶圆均匀加热，从而提高光刻工艺临界尺寸均匀性，进而提高晶圆的良率。
主权项：1.一种匀温控制装置，其特征在于，包括：热盘，具有中心轴以及相对设置的晶圆承载面和支撑面；所述中心轴连接所述晶圆承载面的圆心和所述支撑面的圆心；匀温加热结构，位于所述热盘内，包括：与所述热盘的中心轴可转动连接的多个加热单元；所述加热单元包括：一端为端点且另一端为弧形边的加热块；其中，所述加热块的所述端点与所述热盘的中心轴位于同一轴线上，且所述加热块的所述弧形边的转动轨迹与所述热盘的圆边重合。
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权利要求：
百度查询： 合肥新晶集成电路有限公司 匀温控制装置及匀胶显影机台
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