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申请/专利权人：华虹半导体(无锡)有限公司
摘要：本申请实施例提供了一种光刻胶滴胶量的监控方法，包括：预设一胶量阈值和完整喷涂胶量；对晶圆进行一次光刻胶喷涂处理，其中，光刻胶存在一定流量的回流；获取本次喷涂过程中流经光刻胶管路的稳定流量；将稳定流量的数值与胶量阈值进行比较；若稳定流量的数值小于胶量阈值，则将干预输出胶量记为0；若稳定流量的数值大于胶量阈值，则将干预输出胶量记为完整喷涂胶量；将干预输出胶量反馈给机台。本申请引入胶量阈值，对流量计检测的稳定流量进行干预，获取更准确的干预输出胶量，避免了由于光刻胶回流造成的检测存在偏差的情况，实现胶量的真实输出监控，避免了光刻胶浪费。
主权项：1.一种光刻胶滴胶量的监控方法，其特征在于，包括：预设一胶量阈值，以及预设一完整喷涂胶量；根据所述完整喷涂胶量，对晶圆进行一次光刻胶喷涂处理，其中，光刻胶存在一定流量的回流；获取本次光刻胶喷涂处理过程中流经光刻胶管路的稳定流量；将所述稳定流量的数值与所述胶量阈值进行比较；若所述稳定流量的数值小于所述胶量阈值，则将干预输出胶量记为0；若所述稳定流量的数值大于所述胶量阈值，则将干预输出胶量记为所述完整喷涂胶量；以及将所述干预输出胶量反馈给机台。
全文数据：
权利要求：
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