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申请/专利权人：亚智系统科技(苏州)有限公司
摘要：本实用新型公开了一种水平高均匀蚀刻装置，用于平行于水平面安装在反应腔内，包括：喷射模组和驱动组件。所述喷射模组滑动连接在所述反应腔内并且具有多个均匀分布的喷射件，用于朝向待加工件上喷射刻蚀液。所述驱动组件包括：驱动转轴和凸轮机构，所述凸轮机构具有第一连接端和第二连接端，所述第一连接端转动连接所述喷射模组，所述第二连接端连接所述驱动转轴的轴身靠近顶部处，所述驱动转轴用于通过凸轮组件驱动所述喷射模组在所述反应腔内沿着水平方向往复运动。水平均匀的喷洒在待加工件的表面上，在重力作用下，液体的流动路径缩短，多余的刻蚀液将会从待加工件的表面快速流走，不会堆积，进而避免影响刻蚀的一致性。
主权项：1.一种水平高均匀蚀刻装置，用于平行于水平面安装在反应腔内，其特征在于，包括：喷射模组，所述喷射模组滑动连接在所述反应腔内并且具有多个均匀分布的喷射件，用于朝向待加工件上喷射刻蚀液；驱动组件，所述驱动组件包括：驱动转轴和凸轮机构，所述凸轮机构具有第一连接端和第二连接端，所述第一连接端转动连接所述喷射模组，所述第二连接端连接所述驱动转轴的轴身靠近顶部处，所述驱动转轴用于通过凸轮组件驱动所述喷射模组在所述反应腔内沿着水平方向往复运动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 亚智系统科技(苏州)有限公司 一种水平高均匀蚀刻装置
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