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申请/专利权人：西安电子科技大学
摘要：本发明公开了一种折痕对薄膜反射阵天线单元的影响分析及布局设计方法，涉及空间可展开天线技术领域，解决了现有技术中薄膜展开后留有的折痕变形对天线单元特性的影响问题；该方法包括：获取带折痕的薄膜天线的初始天线阵列，并确定初始天线阵列的天线单元；采用有限元方法对带折痕的薄膜天线进行展开特性分析，得到分析结果；利用其确定不同载荷下薄膜展开特性的建模结果；再建立带折痕的天线单元电磁分析模型，并对天线单元电磁分析模型进行折痕分析，得到相位误差量；利用相位误差量对初始天线阵列的相位进行误差修正，得到修正后的天线阵列；该方法实现了通过分析折痕影响关系，为后续电性能较优的反射阵天线设计提供理论依据和指导。
主权项：1.一种折痕对薄膜反射阵天线单元的影响分析及布局设计方法，其特征在于，包括：获取带折痕的薄膜天线的初始天线阵列，并确定所述初始天线阵列的天线单元；采用有限元方法对所述带折痕的薄膜天线进行展开特性分析，得到分析结果；利用所述分析结果，确定不同载荷下薄膜展开特性的建模结果；利用所述天线单元与所述建模结果建立带折痕的天线单元电磁分析模型，采用无限周期单元模型法对所述天线单元电磁分析模型进行折痕分析，得到与所述天线单元对应的相位误差量；利用所述相位误差量对所述初始天线阵列的相位进行误差修正，得到修正后的天线阵列。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安电子科技大学 折痕对薄膜反射阵天线单元的影响分析及布局设计方法
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