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申请/专利权人：赛光半导体科技(苏州)有限公司
摘要：本发明公开了一种光刻机掩膜板真空吸盘，涉及吸盘技术领域，包括吸盘本体，所述吸盘本体上开凿有气道凹槽，吸盘本体上设置有三个堵头，吸盘本体上设置有两个气道，分别为气道①和气道②，所述吸盘本体的一端设置有三个调节螺钉，吸盘本体位于调节螺钉的位置均开凿有螺钉安装槽，吸盘本体上开凿有胶圈槽，通过自主加工以及表面处理的技术完全是真空吸盘平面度要求达到0.002微米，并保证了阳极氧化的膜厚的同时不会影响真空吸盘的平面度要求，2、对气道圆形凹槽四周进行了新增，从而在进行吸附时候增大了与掩模板的吸附接触面，保证了吸附的可靠性，通过调节螺钉进行对真空吸盘的安装，能够在一定程度上保证了安装的水平，避免了以上情况发生。
主权项：1.一种光刻机掩膜板真空吸盘，其特征在于：包括吸盘本体1，所述吸盘本体1上开凿有气道凹槽7，所述吸盘本体1上设置有三个堵头3，所述吸盘本体1上设置有两个气道，分别为气道①和气道②，所述吸盘本体1的一端设置有三个调节螺钉2，所述吸盘本体1位于调节螺钉2的位置均开凿有螺钉安装槽6，所述吸盘本体1上开凿有胶圈槽5，所述吸盘本体1位于胶圈槽5位置的内部嵌设有橡胶圈4。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 赛光半导体科技(苏州)有限公司 一种光刻机掩膜板真空吸盘
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