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申请/专利权人：浙江众凌科技有限公司
摘要：本发明公开了一种不易脱膜的掩膜板制备方法，涉及掩膜板制备技术领域，包括以下步骤，通过物理气相沉积法或化学气相沉积法在透明基板上沉积导电膜或半导体膜，将光阻剂均匀涂覆在透明基板表面，采用旋转涂布技术，利用离心力原理使光阻剂平铺在透明基板上，喷洒阻燃材料，在喷洒阻燃材料后的光阻膜上光刻掩膜图案，将光刻胶和维生素E混合，通过电子束技术光刻掩膜图案，制备光学膜贴附在掩膜图案表面，形成保护膜，制得不易脱膜的掩膜板。该不易脱膜的掩膜板制备方法，有助于实现阻燃剂在掩膜板材料中的均匀分散，从而提高掩膜板的整体性能，提供环保且有效的抗氧化保护，较好地保持掩膜板表面图形的清晰和准确。
主权项：1.一种不易脱膜的掩膜板制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：通过物理气相沉积法或化学气相沉积法在透明基板上沉积导电膜或半导体膜，将光阻剂均匀涂覆在透明基板表面，采用旋转涂布技术，利用离心力原理使光阻剂平铺在透明基板上，喷洒阻燃材料；步骤二：在喷洒阻燃材料后的光阻膜上光刻掩膜图案，将光刻胶和维生素E混合，通过电子束技术光刻掩膜图案；步骤三：制备光学膜贴附在掩膜图案表面，形成保护膜，制得不易脱膜的掩膜板。
全文数据：
权利要求：
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