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申请/专利权人：武汉华中数控股份有限公司
摘要：本发明公开了一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统，该方法包括：S1.根据线性加工路径，设定拟合曲线最大逼近误差；S2.在所述线性加工路径上设置若干型值点并构成型值点集；S3.基于所述型值点集中的型值点设置控制点并构成控制点集；S4.根据所述控制点集中的若干控制点确定二次B样条曲线；S5.采用所述二次B样条曲线对线性加工路径进行拟合。本发明的算法复杂度低且能够满足线性加工路径误差可控的要求。本发明可应用在中高档数控系统中，其具备误差可控，且能实现路径局部光顺。
主权项：1.一种误差可控的线性加工路径拟合方法，其特征在于，包括：S1.根据线性加工路径，设定拟合曲线最大逼近误差；S2.在所述线性加工路径上设置若干型值点并构成型值点集；S3.基于所述型值点集中的型值点设置控制点并构成控制点集；S4.根据所述控制点集中的若干控制点确定二次B样条曲线；S5.采用所述二次B样条曲线对线性加工路径进行拟合。
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百度查询： 武汉华中数控股份有限公司 一种误差可控的线性加工路径拟合方法及系统
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