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申请/专利权人:无锡翔域半导体有限公司
摘要:本实用新型公开了应用于离子注入机中靶室的加热装置,涉及离子注入机技术领域;而本实用新型包括靶室本体,靶室本体内壁的底部固定连接有加热平台,加热平台内壁的底部设置有S型加热管,加热平台的一侧开设有对称分布的通孔,S型加热管的两端均活动贯穿通孔且螺纹连接有螺母;通过离子束入口、S型加热管、铜丝网、隔热层和陶瓷片之间的配合,通过铜丝网对热量进行传导,使得热量均匀分布于铜丝网表面,进一步提高了加热的均匀性,从而靶室本体的内部进行加热,并通过设置隔热层,进一步提高保温性能,同时采用氮化硼薄片材质的陶瓷片,氮化硼的导热系数是随着温度的升高而变大,能够有效的将热量传导给样品。
主权项:1.应用于离子注入机中靶室的加热装置,包括靶室本体1,其特征在于:所述靶室本体1内壁的底部固定连接有加热平台2,所述加热平台2内壁的底部设置有S型加热管3,所述加热平台2的一侧开设有对称分布的通孔4,所述S型加热管3的两端均活动贯穿通孔4且螺纹连接有螺母5,所述加热平台2的内部且位于S型加热管3的上方固定连接有铜丝网6,所述加热平台2的顶端活动卡接有陶瓷片7,所述加热平台2内壁开设有U型槽,所述U型槽的内壁设置有隔热层8。
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百度查询: 无锡翔域半导体有限公司 应用于离子注入机中靶室的加热装置
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