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微波组件中水汽的去除方法 

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申请/专利权人:中国电子科技集团公司第三十八研究所

摘要:本发明提供微波组件中水汽的去除方法,涉及微波组件制造的技术领域,具体包括:步骤1、检查与清理微波组件表面;步骤2、将微波组件转入密封的特定气氛环境;步骤3、将微波组件置于密封环境内的工作台上,持续使用特定气氛处理微波组件,对微波组件进行加热及保温处理;步骤4、使用激光对微波组件内部进行除水汽操作,并持续使用特定气氛跟随处理;步骤5、除水汽完成后,对微波组件进行保温处理后冷却,待完全冷却后进行气密封盖处理。本发明利用激光直接作用于微波组件待除水汽部件的表面,无须对微波组件长时间整体加热,除水汽效率显著提升,且能源消耗少,可有效控制水汽含量在1000ppm以内。

主权项:1.一种微波组件中水汽的去除方法,其特征在于,具体包括以下步骤:步骤1、检查微波组件表面状态,将微波组件表面清理干净;步骤2、将微波组件转入密封环境内,密封环境为特定气氛环境;步骤3、将微波组件置于特定气氛环境内的工作台上后,开始持续使用特定气氛处理微波组件,并对微波组件进行加热处理,加热至设定温度后进行保温处理;步骤4、保温完成后,再使用激光对微波组件内部进行除水汽操作,除水汽过程中,持续使用特定气氛跟随激光束处理微波组件;步骤5、除水汽完成后,对微波组件进行保温处理后冷却,待完全冷却后进行气密封盖处理。

全文数据:

权利要求:

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