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申请/专利权人：拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
摘要：本实用新型属于半导体加工设备技术领域，公开了一种冷却机构及热处理设备。该冷却机构能够用于热源的冷却。冷却机构包括支架、导流组件以及换热组件。支架用于容纳热源。导流组件设置于支架内，且间隔围设于热源外部。换热组件设置于支架的顶部。其中，导流组件与热源之间形成第一流动空间，且第一流动空间内，由支架的底部朝向支架的顶部的方向温度逐渐上升，导流组件内具有第二流动空间，导流组件用于将支架的顶部进行热量交换后的至少部分气流，通过第二流动空间输送至支架的底部。该冷却机构能够提升热源的冷却效果，并有效节能环保。
主权项：1.冷却机构，其特征在于，用于热源的冷却，所述冷却机构包括：支架，用于容纳所述热源；导流组件，设置于所述支架内，且间隔围设于所述热源外部；换热组件，设置于所述支架的顶部，用于对所述支架顶部的气流进行热量交换；其中，所述导流组件与所述热源之间形成第一流动空间，且所述第一流动空间内，由所述支架的底部朝向所述支架的顶部的方向温度逐渐上升，所述导流组件内具有第二流动空间，所述导流组件用于将所述支架的顶部进行热量交换后的至少部分气流，通过所述第二流动空间输送至所述支架的底部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司 冷却机构及热处理设备
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