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申请/专利权人：松下知识产权经营株式会社
摘要：本公开所涉及的测距方法包含如下工序：在对物体照射背景光的环境下对该背景光的照度进行测光步骤S300；基于该背景光的照度来设定测距范围步骤S310；基于所设定的测距范围来设定包含分别具有APDAvalanchePhotoDiode，雪崩光电二极管的多个像素在内的摄像部的摄像条件以及使光源出射光的出射条件步骤S320；和通过基于所设定的摄像条件以及出射条件控制摄像部以及光源来进行与该物体的距离的测定步骤S330。
主权项：1.一种测距方法，包括如下工序：在对物体照射背景光的环境下对所述背景光的照度进行测光；基于所述背景光的照度来设定测距范围；基于所设定的测距范围来设定包含分别具有APD即雪崩光电二极管的多个像素在内的摄像部的摄像条件以及使光源出射光的出射条件；和通过基于所设定的所述摄像条件以及所述出射条件控制所述摄像部以及所述光源来进行与所述物体的距离的测定。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 松下知识产权经营株式会社 测距方法、测距装置以及程序记录介质
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