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申请/专利权人：常州机电职业技术学院
摘要：本发明涉及微纳米加工技术领域，具体涉及一种用于纳米压印技术的透气印章。常规纳米压印技术即便是在负压环境下进行压印，压印过程中印章与压印胶之间形成的压印腔体内仍会残留气泡，难以在衬底表面得到高分辨率微纳米图案。针对上述问题，本发明提供一种用于纳米压印技术的透气印章，其包括图案层、透气层，透气层位于图案层上方，图案层与透气层相邻端面平行固定连接，所述透气层在地面的正投影完全覆盖图案层在地面的正投影，所述透气层开设有透气孔，所述透气孔贯穿透气层并轴向延伸至图案层的上表面，所述图案层雕刻有凹凸结构的微纳米图案，所述微纳米结构不与透气孔连通，透气孔的存在，使得压印过程中产生的气泡从透气孔逃逸，有效实现了印章与压印胶层之间排气的作用，所获微纳米图案的精度更高。
主权项：1.一种用于纳米压印技术的透气印章，其特征在于，包括图案层、透气层，透气层位于图案层上方，图案层与透气层相邻端面平行固定连接，所述透气层在地面的正投影完全覆盖图案层在地面的正投影，所述透气层开设有透气孔，所述透气孔贯穿透气层并轴向延伸至图案层的上表面，所述图案层雕刻有凹凸结构的微纳米图案，所述微纳米结构不与透气孔连通。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 常州机电职业技术学院 一种用于纳米压印技术的透气印章
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