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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供与多个天线的配置无关地、能够自由地进行等离子体分布控制的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：腔室，其具有对基片实施等离子体处理的处理空间和合成电磁波的合成空间；分隔处理空间和合成空间的电介质窗；天线单元，其具有对合成空间辐射电磁波的多个天线，并作为相控阵天线发挥作用；对天线单元输出电磁波的电磁波输出部；以及使天线单元作为相控阵天线发挥作用的控制部，天线是螺旋形天线。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：腔室，其具有对基片实施等离子体处理的处理空间和合成电磁波的合成空间；分隔所述处理空间和所述合成空间的电介质窗；天线单元，其具有对所述合成空间辐射电磁波的多个天线，并作为相控阵天线发挥作用；对所述天线单元输出电磁波的电磁波输出部；以及使所述天线单元作为相控阵天线发挥作用的控制部，所述天线是螺旋形天线，在令电磁波的波长为λ的情况下，所述螺旋形天线的螺距为λ12～λ8的范围，匝数为1～3。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置和等离子体处理方法
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