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申请/专利权人：亚特兰特3D公司
摘要：本公开涉及一种原子层沉积和或蚀刻方法，包括使用第一前体流体在基材上绘制第一线，所述第一线纵向延伸并且具有横向方向上的第一线宽，以及使用第二前体流体在基材上绘制第二线，所述第二线纵向延伸并且具有横向方向上的第二线宽。第一线和第二线在横向上部分地彼此重叠，重叠程度小于第一线宽和第二线宽，和或第一线和第二线在横向上彼此间隔，间隔程度小于第一线宽和第二线宽，使得形成第一突起，其横向方向上的最大宽度小于第一线宽和第二线宽，和或者形成第一凹部，其横向方向上的最大宽度小于第一线宽和第一线宽。
主权项：1.一种原子层沉积和或蚀刻方法，其包括使用第一前体流体在基材上绘制第一线，所述第一线纵向延伸并且具有横向方向上的第一线宽；使用第二前体流体在所述基材上绘制第二线，所述第二线纵向延伸并且具有横向方向上的第二线宽；其中所述第一线和第二线以预定量在横向上部分地彼此重叠，所述预定量小于第一线宽和第二线宽；和或其中所述第一和第二线以预定量在横向上彼此间隔，所述预定量小于第一线宽和第二线宽，使得形成第一突起，其横向方向上的最大宽度小于第一线宽和第二线宽，和或形成第一凹部，其横向方向上的最大宽度小于第一线宽和第二线宽。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 亚特兰特3D公司 直接原子层沉积和/或蚀刻方法
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