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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社;万机仪器公司
摘要：在等离子体加工中，多个谐波频率分量用于等离子体激发。控制不同频率分量之间的相对幅度和或相移，以便提供期望的离子能量等离子体属性。可以在不进行直接测量和或手动离子能量测量的情况下控制相对幅度和或相移。而是，可以通过监测该等离子体装置内的诸如例如阻抗水平等一个或多个电特性、该射频RF发生器中的电信号、匹配网络中的电信号、以及该等离子体加工装置的其他电路中的电信号来动态地控制该等离子体内的离子能量。可以在等离子体工艺期间动态地实现对该离子能量的监测和控制，以便维持期望的离子能量分布。
主权项：1.一种能够对衬底进行等离子体加工的等离子体加工系统，该等离子体加工系统包括：加工室；一个或多个RF源，该一个或多个RF源耦合至该加工室并且被配置成至少通过基频下的基频电压和第二频率下的第二频率电压来向该加工室提供RF功率，该第二频率是该基频的二次谐波频率或高次谐波；控制电路系统，该控制电路系统耦合至该等离子体加工系统的至少一个其他部件，以在对该衬底进行等离子体加工期间接收该等离子体加工系统的至少一个电特性；以及该控制电路系统的至少一个输出端，该至少一个输出端耦合至该一个或多个RF源中的至少一个RF源，该一个或多个RF源被配置成调整该基频电压和或该第二频率电压的特性，以便在对该衬底进行等离子体加工期间能够获得期望的离子能量分布，其中，该基频电压和或第二频率电压的特性是该基频电压与该第二频率电压之间的相位差和或该基频电压与该第二频率电压的幅度比，所述相位差和或所述幅度比的调整依赖于等离子体加工系统的至少一个电特性的检测，以及，其中，该等离子体加工系统的该至少一个电特性包括该加工室的阻抗。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 万机仪器公司 用于在加工等离子体时控制离子能量分布的装置和方法
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