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申请/专利权人：武汉大学
摘要：本发明公开了一种集成原位测量的分子束外延薄膜生长系统，属于半导体薄膜测量技术领域，所述生长系统包括，真空反应腔室，设置有安装口且底端部分或全部由透光材料构成，用于提供反应环境，安装口用于安装炉源；样品台，设置于真空反应腔室内；第一驱动组件，设置于真空反应腔室外且通过连杆与样品台连接，用于驱动样品台和调节样品台的位置；宽光谱监测装置，设置于真空反应腔室的底部，包括第二驱动组件和监测组件；第二驱动组件带动的监测组件与第一驱动组件驱动的样品台上的样品保持同步运动，获取薄膜生长的信息。本发明可实现半导体薄膜厚度非接触式、原位在线监测，在不影响薄膜生长的情况下得到精确的薄膜厚度数据。
主权项：1.一种集成原位测量的分子束外延薄膜生长系统，其特征在于，包括，真空反应腔室，设置有安装口且底端部分或全部由透光材料构成，用于提供反应环境，所述安装口用于安装炉源；样品台，设置于所述真空反应腔室内；第一驱动组件，设置于真空反应腔室外部顶端且通过连杆与所述样品台连接，用于驱动所述样品台和调节所述样品台的位置；宽光谱监测装置，设置于所述真空反应腔室的底部，包括第二驱动组件和监测组件；工作时，所述第二驱动组件带动的所述监测组件与所述第一驱动组件驱动的所述样品台上的样品保持同步运动，获取薄膜生长的信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉大学 一种集成原位测量的分子束外延薄膜生长系统
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