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申请/专利权人：北京航空航天大学

摘要：本发明涉及电推进技术领域，且具体地涉及一种电推进装置薄膜制备的磁路增强型磁控溅射系统。包括：真空电机、联轴器、基材转台、挡板、气体分配器、进气管、屏蔽筒、靶材压环、靶材、靶材台、磁环、导磁回路、冷却底座、调节螺栓A、绝缘底座、水冷头A、水冷管A、固定平垫、固定弹垫、电气螺栓、水冷管B、水冷头B、调节螺栓B、密封圈、外磁线圈、内磁线圈。本发明提出通过磁路增强磁控溅射，通过线圈精密调节磁场强度，解决电推进装置零件中对不同高度、不同厚度膜层制备的问题。同时通过线圈精密调节磁场结构，解决电推进装置零件表面薄膜制备贵金属薄膜过程中存在的良品率低和靶材利用效率低的问题。

主权项：1.一种电推进装置薄膜制备的磁路增强型磁控溅射离子系统，包括：真空电机1、联轴器2、基材转台3、挡板4、气体分配器5、进气管6、屏蔽筒7、靶材压环8、靶材9、靶材台10、磁环11、导磁回路12、冷却底座13、调节螺栓A14、绝缘底座15、水冷头A16、水冷管A17、固定平垫18、固定弹垫19、电气螺栓20、水冷管B21、水冷头B22、调节螺栓B23、密封圈24、外磁线圈25、内磁线圈26；真空电机1的电机输出轴通过螺钉与联轴器2固定，基材转台3通过螺钉与联轴器2固定。挡板4位于基材转台3与气体分配器5之间。进气管6通过螺纹孔与气体分配器5进行固定，用于溅射所需气体的供给。气体分配器5与屏蔽筒7之间为过盈配合以防止内部气压过低。靶材压环8将靶材9通过螺钉可靠固定在靶材台10上。磁环11位于靶材台10内部，用于提供基础磁场。导磁回路12与磁环11同轴装配，并通过磁力固定在一起。导磁回路12用于改变磁场的结构。冷却底座13与靶材台10通过螺钉固定。冷却底座13与靶材台10之间存在用于冷却水密封的密封圈24。屏蔽筒7与冷却底座13之间通过调节螺栓A14和调节螺栓B23固定，通过改变固定位置可以调节屏蔽筒的轴向高度，以适应不同工况需求。绝缘底座15与冷却底座13之间通过螺钉固定，用于冷却底座13的悬空。水冷管A17通过水冷头A16与冷却底座13之间通过螺纹固定，并用于冷却水的流入。水冷管A17与水冷头A16之间为过盈配合以确保密封性。电气螺栓20通过固定平垫18和固定弹垫19固定在靶材台10上，用于靶材台的电气输入。水冷管B21通过水冷头B22与冷却底座13之间通过螺纹固定，并用于冷却水的流出。水冷管A17与水冷头A16之间为过盈配合以确保密封性。外磁线圈25与内磁线圈26与导磁回路12同轴装配，通过输入电流用于无级调节磁场的结构和强度。外磁线圈25与内磁线圈26的电流方向可以相反或相同。

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