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晶片收纳容器清洗装置 

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申请/专利权人:芝浦机械电子装置株式会社

摘要:本发明的晶片收纳容器清洗装置抑制在清洗槽中被清洗的晶片收纳容器的污染。所述晶片收纳容器具有壳体及门,所述晶片收纳容器清洗装置包括:清洗槽主体,为在上表面具有开口部、且能够在内部收容所述晶片收纳容器的容器;盖部,设置于所述清洗槽主体;载置部,设置于所述清洗槽主体的内部,能够载置所述壳体;第一清洗液喷出部,在壳体载置状态下设置于所述壳体的内部,对所述壳体的内表面喷出清洗液;以及第二清洗液喷出部,在所述壳体载置状态下设置于所述壳体的外侧,对所述壳体的外表面喷出清洗液,所述第一清洗液喷出部的喷出口与所述第二清洗液喷出部的喷出口以能够从其中一个喷出口朝向另一个喷出口彼此喷出清洗液的方式相向。

主权项:1.一种晶片收纳容器清洗装置,对晶片收纳容器进行清洗,所述晶片收纳容器具有:壳体,具有壳体开口部;及门,装设于所述壳体开口部,所述晶片收纳容器清洗装置包括:清洗槽主体,为在上表面具有开口部、且能够在内部收容所述晶片收纳容器的容器;盖部,设置于所述清洗槽主体的所述开口部侧,将所述清洗槽主体的所述开口部打开关闭;载置部,设置于所述清洗槽主体的内部,能够在使所述壳体的所述壳体开口部朝向下方的状态下载置所述壳体;第一清洗液喷出部,在由所述载置部载置有所述壳体的状态即壳体载置状态下设置于所述壳体的内部,对所述壳体的内表面喷出清洗液;以及第二清洗液喷出部,在所述壳体载置状态下设置于所述壳体的外侧,对所述壳体的外表面喷出清洗液,所述第一清洗液喷出部的喷出口与所述第二清洗液喷出部的喷出口以能够从其中一个喷出口朝向另一个喷出口彼此喷出清洗液的方式相向。

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