龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：江苏籽硕科技有限公司
摘要：本发明公布了一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机，涉及半导体刻蚀技术领域。包括有工作台，所述工作台的上侧固接有支撑座，所述支撑座设置有第一滑动件，所述第一滑动件的内侧设置有刻蚀腔，所述刻蚀腔由竖向腔体和引导腔组成，所述引导腔为圆台形，且所述引导腔的直径由上至下逐渐减小。本发明通过改变刻蚀腔结构特征的方式解决硅片与等离子体接触时产生的热气向上移动后会影响到等离子体冲击速度的问题，通过刻蚀腔内侧向内凹陷且呈倾斜状态的作用下，对热气进行阻拦，并对硅片的上侧进行遮挡，以此减少热气向上流动的量，避免热气向上流动后影响到等离子体的冲击速度，导致硅片的上侧无法被均匀冲击。
主权项：1.一种等离子刻蚀机刻蚀腔，其特征是：包括有工作台（10），所述工作台（10）的上侧固接有支撑座（11），所述支撑座（11）设置有第一滑动件（12），所述第一滑动件（12）的内侧设置有刻蚀腔（13），所述刻蚀腔（13）由竖向腔体和引导腔（1301）组成，所述引导腔（1301）为圆台形，且所述引导腔（1301）的直径由上至下逐渐减小，所述引导腔（1301）用于遮挡所述硅片（1）被刻蚀出的热气。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏籽硕科技有限公司 一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号