买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:苏州苏大维格科技集团股份有限公司;南京大学;苏州大学
摘要:本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括:基材;单层微纳结构,设置于基材的一侧,单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构;其中,目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后,目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像,保证成像的清晰度,并且不仅可实现近距离三维空间成像效果,也可以实现远距离空间投影成像效果。
主权项:1.一种空间光场成像器件,其特征在于,包括:基材;单层微纳结构,设置于所述基材的一侧,所述单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构;其中,所述目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后,所述目标中间像逆向传播至透过所述初始成像结构时于所述初始成像结构的表面形成的相位分布图与所述初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 南京大学 苏州大学 空间光场成像器件及其制备方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。