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发光器件、显示阵列及其制备方法 

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申请/专利权人:京东方华灿光电(浙江)有限公司

摘要:本公开提供了一种发光器件、显示阵列及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该发光器件包括:外延结构、第一绝缘层和反射层;外延结构具有相对的出光面和背光面,以及连接出光面和背光面的侧壁,第一绝缘层环绕外延结构,第一绝缘层围成反射槽,外延结构位于反射槽内,背光面与反射槽的底面贴合,且外延结构的侧壁与反射槽的槽壁贴合,出光面低于反射槽的开口端;反射层环绕第一绝缘层,且至少部分反射层至反射槽的底面距离大于出光面至反射槽的底面的距离。本公开能改善发光器件之间存在的光串扰的问题,提升显示阵列的显示效果。

主权项:1.一种发光器件,其特征在于,所述发光器件包括:外延结构20、第一绝缘层31和反射层33;所述外延结构20具有相对的出光面21和背光面22,以及连接所述出光面21和所述背光面22的侧壁,所述第一绝缘层31环绕所述外延结构20,所述第一绝缘层31围成反射槽34,所述外延结构20位于所述反射槽34内,所述背光面22与所述反射槽34的底面贴合,且所述外延结构20的侧壁与所述反射槽34的槽壁贴合,所述出光面21低于所述反射槽34的开口端;所述反射层33环绕所述第一绝缘层31,且至少部分所述反射层33至所述反射槽34的底面距离大于所述出光面21至所述反射槽34的底面的距离。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方华灿光电(浙江)有限公司 发光器件、显示阵列及其制备方法

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