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申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所

摘要：本发明公开了一种基于Zernike多项式的补偿温度带来像质退化的方法，包括：理想成像系统仿真模块，温度导致像质退化分析模块，反卷积像质校正模块。理想成像系统仿真模块作为成像模块进行仿真成像；温度导致像质退化分析模块是在Zemax里面用多重组态模式分析出不同温度下对应的Zernike多项式并做成序列表；反卷积像质校正模块用实际温度传感器测得温度对应已有序列表用对应Zernike多项式进行反卷积达到校正温度带来像差变化的结果，可以达到处理温度带来像质退化的效果，不需要额外增加调焦组件，简化了系统，提高了系统可靠性，降低了系统成本。

主权项：1.一种基于Zernike多项式的补偿温度带来像质退化的方法，其特征在于：该方法利用的系统包括：理想成像系统仿真模块（1），温度导致像质退化分析模块（2）和反卷积校正模块（3），该方法包括以下步骤：步骤1：利用理想成像系统仿真模块（1）得到理想情况下光学系统成像质量；步骤2：利用温度导致像质退化分析模块（2）多重组态温度分析，得到不同温度下像质退化情况，也就是对应Zernike多项式体现出的波像差并对应温度做成序列表；步骤3：实际温度传感器下测得温度并得到实际温度下对应图像；步骤4：利用反卷积像质校正模块（3）将对应温度下将得到的图像对应Zernike多项式温度序列表，将对于Zernike系数代入光瞳函数相位进行反卷积得到像质恢复后图像；其中，建立理想成像系统仿真模块（1）包括：对实际需求建立完整的理想成像系仿真模型（1），根据物距、视场大小和分辨率得到实际的靶面大小以及焦距，在Zemax里建立光学系统模型，得到20℃下理想成像结果以调制传递函数（MTF）在截止频率处大于0.3认为成像质量达到要求，并利用Zemax图像模拟得到理想成像将此结果作为像质校正的标准，作为温度校正图像的对照图像；建立温度导致像质退化分析模块（2）包括：根据20℃下理想成像结果，从-30℃~60℃每隔1℃建立一个组态，并输入对应外壳以及隔圈材料的热膨胀系数进行温度分析，得到温度与成像质量对应关系，以1-37Zernike多项式作为评判标准，得到不同温度对应不同Zernike多项式温度序列表。

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