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低爬升高残余的离型剂、其制备方法及离型膜 

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申请/专利权人:江苏斯迪克新材料科技股份有限公司

摘要:本发明公开了一种低爬升高残余的离型剂、其制备方法及离型膜,该离型剂包括按重量份计的以下原料组分:双醇羟基双封端硅油5‑20份、活性稀释剂1‑6份、异氰基丙烯酸酯20‑80份、对苯醌0.025‑1份、催化剂0.01‑0.04份、溶剂15‑60份、3,4‑乙烯二氧噻吩0.75‑3份、光引发剂0.25‑1份。本发明制备的有机硅离型膜具有低爬升高残余特性,离型涂层均匀稳定,耐候性好,同时更加环保,对于胶带具有稳定的剥离效果。

主权项:1.一种低爬升高残余的离型剂,其特征在于,包括按重量份计的以下原料组分:双醇羟基双封端硅油5-20份、活性稀释剂1-6份、异氰基丙烯酸酯20-80份、对苯醌0.025-1份、催化剂0.01-0.04份、溶剂15-60份、3,4-乙烯二氧噻吩0.75-3份、光引发剂0.25-1份。

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权利要求:

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