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一种光源诱发干膜成型的最佳曝光能量的确定方法 

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申请/专利权人:珠海市能动科技光学产业有限公司

摘要:本发明提供一种光源诱发干膜成型的最佳曝光能量的确定方法,属于印制电路板线路制作技术领域。所述方法的步骤包括覆铜板微蚀干膜、曝光显影形成干膜线路、金相切片制样、线路截面形状拍摄、线宽测量,并根据测量结果确定最佳曝光能量。在印制电路板线路制作之图形转移的过程中,采用本发明的方法,覆铜板经微蚀热压干膜、曝光显影形成图形线路后,可准确获取特定曝光光源下该线路截面形状信息、顶部线宽和底部线宽,为干膜在图形转移中设定合适的曝光参数提供指导方向,从而保证图形电镀铜线路侧壁良好的垂直状态及稳定的线宽线距比,提高精细线路制作良率和制程能力指标Cpk。

主权项:1.一种光源诱发干膜成型的最佳曝光能量的确定方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、微蚀后的覆铜板表面热压干膜;S2、干膜经过梯度方式曝光及迅速显影后形成干膜线路;S3、金相切片制样:金相切片制样用于固定样品的位置和方向,把干膜线路的截面裸露于金相切片的研磨抛光面,且此干膜线路垂直于金相切片的研磨抛光面;S4、干膜线路边墙结构垂直状态评价:采用3D激光显微镜观察干膜线路截面形状,并用ImageJ测量各曝光能量下干膜线路顶部线宽L1及底部线宽L2;S5、基于S4测量的线宽数据判断光源诱导干膜曝光成型类型及筛选出制作干膜精细线路所需的最佳曝光能量。

全文数据:

权利要求:

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