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一种基于物理沉积法的低内阻型涂碳铝箔及其制备方法 

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申请/专利权人:江苏鼎胜新能源材料股份有限公司

摘要:本发明公开了一种基于物理沉积法的低内阻型涂碳铝箔及其制备方法,所述的制备方法包括以下步骤:S1、铝箔清洗;S2、碳材料制备;S3、制备碳粉悬浮液;S4、碳膜沉积;S5、退火处理;S6、退火后,在氮气保护下冷却至室温。通过在碳膜沉积采用磁控溅射技术,确保了碳膜在铝箔表面的均匀分布,从而显著提高了铝箔的导电性能。通过调节溅射功率和时间,能够控制碳膜的厚度和质量,使得碳膜更加致密,有效降低表面电阻。退火处理通过高温在真空条件下进行,使得碳膜的结构更加稳定,进一步降低了电阻,提高了导电性。同时控制升温和降温速率,避免了热应力的产生,提高了碳膜的附着力和稳定性。

主权项:1.一种基于物理沉积法的低内阻型涂碳铝箔的制备方法,其特征在于,所述的制备方法包括以下步骤:S1、铝箔清洗:选用厚度为10-20μm的铝箔作为基材;使用去离子水和无水乙醇对铝箔进行超声波清洗;将清洗后的铝箔在80℃下烘干30分钟,以确保铝箔表面完全干燥;S2、碳材料制备:石墨粉作为碳源材料,纯度要求≥99.9%;S3、制备碳粉悬浮液;S4、碳膜沉积:在真空腔中将铝箔固定于基片台上,将碳粉悬浮液置于靶材位置,使用磁控溅射进行沉积;S5、退火处理:将沉积有碳膜的铝箔置于真空退火炉中进行退火处理;S6、退火后,在氮气保护下冷却至室温。

全文数据:

权利要求:

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