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申请/专利权人:陕西科技大学
摘要:本发明公开了一种MoS2莫尔超晶格电催化剂及其制备方法和应用,该制备方法包括:在单温区管式炉中通过化学气相沉积法在SiO2Si衬底表面制备MoS2;利用PVA转移法将MoS2转移到另一片生长有MoS2的SiO2Si衬底上,从而制备MoS2莫尔超晶格;本发明采用化学气相沉积法和转移法制备莫尔超晶格电催化剂,该方法制备工艺简单,操作简便,可以控制异质结层间转角,有利于大规模生产和推广,制备的双层结构的旋转错位或晶格错位得到纳米尺度的MoS2莫尔超晶格,显著增加活性位点的数量,降低层间势垒、降低氢吸附吉布斯自由能,从而提高电催化剂的电化学活性,在电催化析氢等领域具有良好的应用前景。
主权项:1.一种MoS2莫尔超晶格电催化剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、用移液枪吸取2-3μl浓度为2.5-10mgml的NH4MoO4溶液和1μl浓度为5mgml的NaCl溶液至底片,置于烘箱中烘干,然后将底片置于石英舟中,然后将顶片倒扣在该舟上方,将该石英舟置于管式炉中心位置;底片和顶片为SiO2Si衬底;取过量硫粉堆放在石英瓦片中,置于管式炉上游,将SiO2Si衬底置于管式炉下游,以氩气为载气,通过化学气相沉积法在SiO2Si衬底表面制备MoS2,以升温速率为30-50℃min,使管式炉温度至700℃-900℃,持续通气保温5-20min,完成后自然冷却到室温取出样品;平行制备两组分别生长在SiO2Si衬底上的MoS2;步骤二、利用PVA转移法将步骤一制备的生长在其中一片SiO2Si衬底上的MoS2转移到另一片长有MoS2的SiO2Si衬底上,在300℃下退火0.5-1h,得到MoS2莫尔超晶格。
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