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申请/专利权人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
摘要：本发明公开了一种超高真空样品处理装置，包括高真空腔体，以及设置于该腔体中的：加热台，至少提供一个承载样品的载台，并且通过电子束轰击样品背面；清洁装置，其向待处理样品的待处理面提供离子射流以轰击表面进行清洁和或刻蚀；具有微漏阀的供气装置，其通过微漏阀受控地连接腔体，为腔体供气；真空检测装置，其用于实时监控腔体的真空度；控制装置，控制连接到加热台和或清洁装置和或供气装置和或真空检测装置，以依据指令实现对加热台和或清洁装置和或供气装置和或真空检测装置进行控制。
主权项：1.一种超高真空样品处理装置，其特征在于，包括高真空腔体，以及设置于该腔体中的：加热台，至少提供一个承载样品的载台，并且通过电子束轰击样品背面；清洁装置，其向待处理样品的待处理面提供离子射流以轰击所述表面进行清洁和或刻蚀；具有微漏阀的供气装置，其通过微漏阀受控地连接所述腔体，为腔体供气；真空检测装置，其用于实时监控所述腔体的真空度；控制装置，控制连接到所述加热台和或清洁装置和或供气装置和或真空检测装置，以依据指令实现对加热台和或清洁装置和或供气装置和或真空检测装置进行控制。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 超高真空样品处理装置
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