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一种有限距离目标成像的焦面补偿方法 

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申请/专利权人:中国科学院上海技术物理研究所

摘要:本发明公开了一种有限距离目标成像的焦面补偿方法,该方法包括以下步骤:首先,在Zemax软件中将待光校光学系统的物距设置为目标距离,设置好环境参数及其他光学参数,经过像质优化得到后截距,并将后截距上的变量取消,使之固定;之后,将平行光管的参数输入Zemax光学系统,取代之前的物距,将平行光管光源与平行光管主面的距离设为唯一变量进行像质优化;最后,比较优化后得到的光源距离与平行光管的焦距,通过调整平行光管光源位置,对有限距离目标成像的焦面进行补偿。本发明优点在于:在实验室空间内对光学系统进行光校,可实现有限距离目标成像的焦面补偿,即实现对有限距离处目标的清晰成像。

主权项:1.一种有限空间内近距离目标成像的焦面补偿方法,其特征在于,所述方法包含以下步骤:1得到目标物距下的后截距,具体步骤如下:1-1在Zemax软件中将待光校光学系统的物距设置为目标距离;1-2仅将后截距设为变量进行像质优化;1-3优化结束后得到后截距,将变量取消,使之固定;2确定平行光管光源移动方向与距离,具体步骤如下:2-1将平行光管的参数输入Zemax光学系统,取代之前的物距;2-2将平行光管光源与平行光管主面的距离设为唯一变量进行像质优化;2-3比较分析优化后得到的光源距离与平行光管的焦距;3按照分析结果移动平行光管光源,并进行光校。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海技术物理研究所 一种有限距离目标成像的焦面补偿方法

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