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源装置和TLE系统 

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申请/专利权人:马克斯·普朗克科学促进学会

摘要:本发明涉及一种用于TLE系统100的源装置10,该源装置10用于提供源元件12,该源元件12包括将由激光束112蒸发和或升华的源材料14或由将由激光束112蒸发和或升华的源材料14组成,该源装置10包括承载所述源元件的支撑件20。另外,本发明涉及一种TLE系统100,其包括用于提供激光束112的激光源110、用于容纳反应气氛124的反应室120、用于提供源元件12的源装置10、以及用于提供基板132的基板装置130,该源元件12包括在反应室120内将由激光束112蒸发和或升华的源材料14或由在反应室120内将由激光束112蒸发和或升华的源材料14组成,该基板132将用蒸发和或升华的源材料14在反应室120内被涂覆。此外,本发明涉及一种用于使用TLE系统100的方法,该TLE系统100包括用于提供激光束112的激光源110、用于容纳反应气氛124的反应室120、用于提供源元件12的源装置10、以及用于提供基板132的基板装置130,该源元件12包括在反应室120内将由激光束112蒸发和或升华的源材料14或由在反应室120内将由激光束112蒸发和或升华的源材料14组成,该基板132将用蒸发和或升华的源材料14在反应室120内被涂覆。

主权项:1.一种用于TLE系统100的源装置10,所述源装置10用于提供源元件12,所述源元件12包括将由激光束112蒸发和或升华的源材料14或由将由所述激光束112蒸发和或升华的所述源材料14组成,所述源装置10包括承载所述源元件12的支撑件20,其中,所述支撑件20包围不具有所述支撑件20的任何结构元件的自由空间60,使得所述自由空间60沿所述自由空间60的中心轴线66延长而具有柱状,其中,设置在所述支撑件20的表面部分22中的开口24提供从所述支撑件20的外部至所述自由空间60的通道,所述开口24定义所述自由空间60的上端62,并且设置在所述支撑件20内沿所述自由空间60的中心轴线66与所述开口24间隔开的所述源元件12定义所述自由空间60的下端64,以及其中,所述支撑件20中在所述上端62与所述下端64之间环绕所述自由空间60的壁结构30包括对所述激光束112具有反射作用的镜面32。

全文数据:

权利要求:

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