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申请/专利权人：深圳市星海威真空设备有限公司
摘要：本发明适用于半导体生产技术领域，提供了一种高温化学气相沉积设备，上述高温化学气相沉积设备包括真空容器、隔热部、反应容器以及加热器。与现有技术中的高温化学气相沉积设备相比，可以将反应容器与加热器设置在隔热部上的容纳空间中，通过。隔热部的设置减少热量的外传保证反应腔内温度环境的稳定以及均匀性，还可以使反应腔内的热量可以更好的累积，从而使反应腔内的温度更容易达到较高的温度以满足大尺寸工件加工的工艺要求，同时通过在真空容器上的真空腔内设置有反应容器，反应容器具有真空腔互不连通的反应腔，可以对真空腔以及反应腔进行单独抽真空，保证了反应腔内的工艺气体纯度。可以很好的保证在高温下大尺寸工件沉膜质量以及均匀性。
主权项：1.一种高温化学气相沉积设备，其特征在于，包括：真空容器，具有真空腔；隔热部，设置在所述真空腔内，所述隔热部内具有容纳空间；反应容器，设置在所述容纳空间内，所述反应容器具有与所述真空腔互不连通的反应腔，所述反应腔用于容纳产品且与外部工艺气源管路连通；以及加热器，设置在所述容纳空间内，且位于在所述隔热部的内壁与所述反应容器的外壁之间，所述加热器用于对所述反应容器进行加热。
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权利要求：
百度查询： 深圳市星海威真空设备有限公司 高温化学气相沉积设备
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